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作者:ag真人游戏 发布于:2021-01-27 23:54 点击量:

  光化学蚀刻制造工艺_数学_自然科学_专业资料。光化学蚀刻制造工艺 尹国钦;郑腾威 【期刊名称】《电子制作》 【年(卷),期】2014(000)012 【摘要】光化学蚀刻(PCM)是指利用摄影技术生成的掩膜,通过选择性化学侵 蚀生产无毛刺、无应力的

  光化学蚀刻制造工艺 尹国钦;郑腾威 【期刊名称】《电子制作》 【年(卷),期】2014(000)012 【摘要】光化学蚀刻(PCM)是指利用摄影技术生成的掩膜,通过选择性化学侵 蚀生产无毛刺、无应力的平整金属元件的工程生产技术。金属加工目前主要有 几种手段:蚀刻、冲压、激光、CNC、线切割、电脉冲等,而蚀刻加工与其它 加工手段相比有很多优点:可加工绝大部分金属及合金;加工精度高;可加工 形状复杂的元件;加工过程中无应力产生;加工成本较低廉;工艺灵活,大型 或小型生产均可;产品无任何毛刺;对被加工材料的主要性能无影响;光刻工 具价格低廉;光刻工具易于改进等,因此广泛应用于各类金属加工中。 【总页数】2 页(187-188) 【关键词】光化学蚀刻;制造;工艺 【作者】尹国钦;郑腾威 【作者单位】宁波东盛集成电路元件有限公司 315800;宁波太古新材料科技有 限公司 315800 【正文语种】中文 【中图分类】 【相关文献】 1.光化学蚀刻中图文转移工艺的研究 [J], 傅玉婷; 颜飞雪; 郭建增 2.光化学蚀刻技术用于加工平面薄金属零件的研究 [J], 杨晓辉 3.时间分辨质谱法研究激光化学蚀刻反应的脱附动力学 [J], 李雨林; 秦启宗 4.光化学蚀刻在增益发生器加工中的应用前景 [J], 傅玉婷; 巴俊州; 蒋亚雄; 颜 飞雪; 李少华 5.光化学蚀刻实验线的一些问题研究 [J], 武一 以上内容为文献基本信息,获取文献全文请下载

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